MIDAS SYSTEM公司開發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實驗室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國第1家研發(fā)并商業(yè)化光罩對準曝光機的企業(yè)，始終致力于不斷*、增強技術(shù)型企業(yè)的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業(yè)化的設(shè)計團隊，以客戶需要為己任，生產(chǎn)、供應(yīng)滿足國內(nèi)外企業(yè)、科研院所不斷增長的應(yīng)用需求，并且提供半導(dǎo)體工藝相關(guān)的設(shè)備需要。

MDA-40FA/60F光刻機是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復(fù)光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應(yīng)用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。

MDA-40FA/60F光刻機

操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動對齊標記搜索功能

類型：全自動

掩模版尺寸：最大5英寸

基板尺寸：2~4英寸

均勻光束尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光源：紫外燈，350W

光束波長：350~450nm

光束均勻度<±3%

365 nm強度  ~25 mW/?

對齊方式：全自動

對準精度：1 um

加工方式：軟、硬、真空接觸、接近

工藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空接觸

MDA-60FA

操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動對齊標記搜索功能

類型：全自動

掩模版尺寸：最大7英寸

基板尺寸：4~6英寸

均勻光束尺寸：6.25*6.25英寸

紫外光源：紫外燈，350W

光束波長：350~450nm

光束均勻度<±5%

365 nm強度  ~25 mW/?

對齊方式：全自動

對準精度：1 um

加工方式：軟、硬、真空接觸、接近

工藝分辨率：1μm@1μm PR厚度，真空接觸