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隨著微電子技術(shù)和納米技術(shù)的快速發(fā)展，光刻技術(shù)成為了半導(dǎo)體制造和高精度微加工中的核心技術(shù)。尤其是半自動(dòng)光刻機(jī)，憑借其較高的性價(jià)比和較為靈活的操作模式，已經(jīng)在許多高精度微加工領(lǐng)域中得到了廣泛應(yīng)用。一、半自動(dòng)光刻機(jī)的工作原理光刻技術(shù)通過(guò)利用光敏材料（光刻膠）在紫外光或激光照射下發(fā)生化學(xué)...
激光直寫(xiě)提高工作量和用戶安全程度激光直寫(xiě)光刻機(jī)是桌面型高分辨率激光光刻系統(tǒng)，它通過(guò)固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結(jié)構(gòu)，直寫(xiě)面積高達(dá)4英寸，特征尺寸（寬度）可達(dá)1微米。激光直寫(xiě)光刻機(jī)提供豎直和掃描直寫(xiě)模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動(dòng)光學(xué)聚焦系統(tǒng)，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配，增強(qiáng)清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫(xiě)不僅具有無(wú)掩模板直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活...
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