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狹縫擠出式涂布機(jī)應(yīng)用于鋰電池正、負(fù)極極片涂布工藝，是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對(duì)基材進(jìn)行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置slotdie狹縫擠壓涂布模頭、精密計(jì)量供料系統(tǒng)與進(jìn)料閥體配合可實(shí)現(xiàn)連續(xù)涂布、條紋涂布、間歇涂布、網(wǎng)格涂布等涂布工藝。該設(shè)備也適用于對(duì)一些其它類型漿料及基材的涂布工藝。設(shè)備具有較高的涂布精度高，一致性和穩(wěn)定性好，可應(yīng)用于鋰離子電池、FCCL、光學(xué)薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)，適合實(shí)驗(yàn)室或樣品線用于產(chǎn)品的工藝摸索。適用于有機(jī)太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽...

低溫等離子體源是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到擊穿電壓時(shí)，氣體分子被電離，產(chǎn)生包括電子、離子、原子和原子團(tuán)在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體，也叫非平衡態(tài)等離子體。如果電子的溫度和重粒子溫度差不多，則為高溫等離子體，或平衡態(tài)等離子體。低溫等離子體源中能量的傳遞大致為:電子從電場(chǎng)中得到能量，通過碰撞將能量轉(zhuǎn)化為分子的內(nèi)能和動(dòng)能，獲得能量的分子被激發(fā)，與此同時(shí)，部分分子被電離，這些活化了的粒子...

皮可安培計(jì)測(cè)量電路中電流強(qiáng)度的儀器，也叫安培表、電流表。主要類型有轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表、轉(zhuǎn)動(dòng)鐵片式電流表、熱偶式電流表以及熱線式電流表。當(dāng)被測(cè)電流流過固定線圈時(shí)，產(chǎn)生磁場(chǎng)，一塊軟鐵片在所產(chǎn)生的磁場(chǎng)中轉(zhuǎn)動(dòng)，能用來測(cè)試交流或直流，比較耐用，但不及轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表靈敏。安培計(jì)也能用于交流或直流，其中有一電阻器，當(dāng)電流流過時(shí)，電阻器熱量上升，電阻器與熱偶接觸，熱偶與一表頭相連，從而構(gòu)成熱偶式電流表，這種間接式電表主要用來測(cè)量高頻交流。皮可安培計(jì)在使用時(shí)，夾住線的兩端，線被加熱，它的延長(zhǎng)部...

表面光電壓譜可以用來測(cè)定半導(dǎo)體的導(dǎo)電類型（特別是有機(jī)半導(dǎo)體的導(dǎo)電類型）、半導(dǎo)體表面參數(shù)，研究納米晶體材料的光電特性，了解半導(dǎo)體光激發(fā)電荷分離和電荷轉(zhuǎn)移過程，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體的譜帶解釋，并為研究符合體系的光敏過程和光致界面電荷轉(zhuǎn)移過程提供可行性方法。光譜研究光生載流子反應(yīng)動(dòng)力學(xué)，半導(dǎo)體受激光激發(fā)后產(chǎn)生載流子，在其衰減過程中可發(fā)生一系列的變化和反應(yīng)，時(shí)間分辨紫外可見吸收光譜可監(jiān)測(cè)其隨時(shí)間變化，確定載流子的檢測(cè)波長(zhǎng)，光生電子和空穴的特征吸收波長(zhǎng)可調(diào)控電極一種載流子濃度而測(cè)量另一種載流子的...

多功能磁控濺射儀在單個(gè)陰極靶系統(tǒng)中，與脈沖磁控濺射有同樣的釋放電荷、防止打弧作用，適用于高分辨掃描電鏡及聚焦離子束掃描電鏡樣品的噴金以及樣品等離子體清洗等多種用途。儀器實(shí)現(xiàn)磁控濺射噴金，獲得更為細(xì)膩的金膜，以滿足高分辨掃描電鏡等樣品處理，同時(shí)具備射頻離子源實(shí)現(xiàn)樣品清洗，高效、低等離子體轟擊損傷，核心部件采用無油分子泵組，靜音、無需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染，保證設(shè)備具有優(yōu)異的質(zhì)量與穩(wěn)定可靠性，觸摸屏界面操作，即插即用。該設(shè)備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小...

磁控濺射鍍膜機(jī)在磁控濺射中，由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力，運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動(dòng)，其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng)，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向。另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量，同時(shí)，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時(shí)，已變成低能電子，從而不會(huì)使基片過熱。射頻磁控濺射相對(duì)于直流磁控濺射的主要優(yōu)點(diǎn)是，它不要求作為電...