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卷對(duì)卷脈沖激光沉積系統(tǒng)（高溫超導(dǎo)帶材鍍膜）是一款經(jīng)過現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的卷對(duì)卷（Reel-to-Reel）脈沖激光沉積（PLD） 工具，專為ReBCO型高溫超導(dǎo)帶材的連續(xù)鍍膜設(shè)計(jì)。系統(tǒng)工作波長(zhǎng)為308 nm（XeCl準(zhǔn)分子-激光器），由客戶自備的LEAP激光器提供能量。整套系統(tǒng)集成了*的膠帶傳輸、精確張力控制、均勻加熱和高精度真空技術(shù)，旨在滿足高性能超導(dǎo)帶材的研發(fā)與中試生產(chǎn)需求。

高溫超導(dǎo)帶材離子束輔助沉積系統(tǒng)（IBAD）是一套經(jīng)過現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的、用于高溫超導(dǎo)（HTS）帶材制備的離子束輔助沉積（IBAD）工具。其主要工藝是通過離子束輔助沉積技術(shù)，在低成本、柔性的金屬基帶上制備出具有特定雙軸織構(gòu)的氧化鎂（MgO）緩沖層，為后續(xù)沉積高性能的釔鋇銅氧（YBCO）超導(dǎo)層奠定基礎(chǔ)。該技術(shù)消除了對(duì)昂貴的單晶或RABiTS織構(gòu)金屬基板的需求，是實(shí)現(xiàn)高性能、低成本高溫超導(dǎo)帶材產(chǎn)業(yè)化的關(guān)鍵設(shè)備。

我司致力于為科研與規(guī)?；a(chǎn)提供更為優(yōu)異的卷對(duì)卷（R2R）薄膜沉積解決方案。我們的脈沖激光沉積（PLD）系統(tǒng)專為REBCO涂層導(dǎo)體的高質(zhì)量、高效率生產(chǎn)而設(shè)計(jì)，卷對(duì)卷脈沖激光沉積系統(tǒng) 高溫超導(dǎo)帶材鍍膜集成了數(shù)十年的技術(shù)積淀與創(chuàng)新工藝，是推動(dòng)超導(dǎo)技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)化的主要裝備。

狹縫擠出型涂布機(jī)，適用于高精度大面積表面涂布，平板型或 卷對(duì)卷涂布。應(yīng)用領(lǐng)域：大學(xué)科研，柔性基板，觸摸屏等。

派瑞林真空鍍膜機(jī)，用于隔熱的門加熱器：最高 200 °C。汽化溫度設(shè)置：最多 10 步（溫度和時(shí)間）。

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積，通常選用射頻淋浴源(RF)或帶有不規(guī)則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應(yīng)源產(chǎn)生等粒子體。

等離子體增強(qiáng)原子層沉積系，原子層沉積是在一個(gè)加熱反應(yīng)的襯底上連續(xù)引入至少兩種氣相前驅(qū)體源，化學(xué)吸附至表面飽和時(shí)自動(dòng)終止，適當(dāng)?shù)倪^程溫度阻礙了分子在表面的物理吸附。一個(gè)基本的原子層沉積循環(huán)包括四個(gè)步驟：脈沖A，清洗A，脈沖B和清洗B。沉積循環(huán)不斷重復(fù)直至獲得所需的薄膜厚度，是制作納米結(jié)構(gòu)從而形成納米器件較佳的工具。

MOKE系統(tǒng)：超高真空系統(tǒng)用于對(duì)超薄磁膜和多層電子束蒸發(fā)的薄膜沉積進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)實(shí)時(shí)磁光克爾效應(yīng)研究。