光刻機又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

MDA-80MS光刻機產(chǎn)地：韓國MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-80MS

MDA-80MS光刻機

簡單的操作和安裝，PLC操作與PC控制，小型半自動系統(tǒng)，圖像抓取和數(shù)據(jù)記錄，100多個程序配方

•PC控制，半自動操作

•掩模版尺寸達到9英寸

•基板尺寸為8英寸

•均勻光束尺寸8.25*8.25英寸

•光源：紫外線燈，1 kW

•光束波長350~450 nm

•光束均勻性 <±5%

•365 nm強度 ~25 mW/?

•手動操作

•對準(zhǔn)精度1 um

•操作模式：軟、硬、真空接觸和接近

•工藝分辨率：1 um@1 um PR厚度，真空接觸

•尺寸（mm）：1400（寬）*1100（深）*1600（高）