MIDAS SYSTEM公司開發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)和甩膠機(jī)，是韓國(guó)第1家研發(fā)并商業(yè)化光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的企業(yè)，始終致力于不斷*、增強(qiáng)技術(shù)型企業(yè)的核心競(jìng)爭(zhēng)力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業(yè)化的設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)，以客戶需要為己任，生產(chǎn)、供應(yīng)滿足國(guó)內(nèi)外企業(yè)、科研院所不斷增長(zhǎng)的應(yīng)用需求，并且提供半導(dǎo)體工藝相關(guān)的設(shè)備需要。

MDE-200SC全自動(dòng)光刻機(jī)是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動(dòng)化對(duì)準(zhǔn)曝光平臺(tái)具有更高的重復(fù)光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應(yīng)用，同時(shí)MDA-12SA型半動(dòng)化光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。

MDE-200SC全自動(dòng)光刻機(jī)

易于操作和安裝，處理各種尺寸的基板，掃描和步進(jìn)式曝光

類型：掃描步進(jìn)曝光

掩模版尺寸：大尺寸訂制

基板尺寸：大尺寸訂制

均勻光束尺寸：大尺寸訂制

紫外光源：紫外燈，1KW

光束波長(zhǎng)：350~450nm

光束均勻度 <±5%

365 nm強(qiáng)度 ~25 mW/?

對(duì)齊方式：無(wú)對(duì)準(zhǔn)

對(duì)準(zhǔn)精度：無(wú)對(duì)準(zhǔn)

加工方式：軟、硬、真空接觸、接近

工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接觸