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磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E（電場(chǎng)）×B（磁場(chǎng)）所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng)，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng)，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng)，而且被束縛在靠近靶表...

勻膠機(jī)其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。勻膠機(jī)是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。從其原理來(lái)說(shuō)，可以看出選購(gòu)勻膠機(jī)需要注意的幾個(gè)細(xì)節(jié)：1、旋轉(zhuǎn)速度轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標(biāo)示的轉(zhuǎn)速和電機(jī)的實(shí)際轉(zhuǎn)速誤差很大，對(duì)于要求精密涂覆的科研人員來(lái)說(shuō)是無(wú)法獲...

在許多實(shí)際試驗(yàn)中,需要使用氣溶膠發(fā)生器,以固定的粒徑分布連續(xù)穩(wěn)定地產(chǎn)生濃度可調(diào)的氣溶膠粒子。氣溶膠主要是用特殊的噴嘴設(shè)計(jì)的。壓縮空氣通過(guò)一個(gè)圓形槽被吹入霧化液體。噴氣口與液體之間的剪切力在所謂的環(huán)形間隙中充分分散,形成微小的氣溶膠粒子,慣性對(duì)撞機(jī)體積較大。當(dāng)氣溶膠顆粒返回液體容器時(shí),輸出顆粒尺寸主要分布在0.1到10微米之間。適用于醫(yī)療器械檢驗(yàn)機(jī)構(gòu)、疾病預(yù)防控制中心、醫(yī)院、制藥企業(yè)、高效過(guò)器生產(chǎn)企業(yè)等潔凈室、高效過(guò)濾器的檢漏。然而新手在使用儀器時(shí)都會(huì)遇到一些問(wèn)題，下面我們來(lái)仔...

快速動(dòng)力學(xué)停流裝置為樣品經(jīng)濟(jì)性設(shè)定了新的標(biāo)準(zhǔn)，只需要120微升的樣品進(jìn)行沖洗、裝載和收集數(shù)據(jù)，同時(shí)進(jìn)行3-4次重復(fù)測(cè)量，沖洗和樣品裝入均自動(dòng)完成，只需將120微升的溶液移到每個(gè)樣品杯中，在設(shè)計(jì)這種儀器的過(guò)程中，我們還增加了新的降噪電路，以改善信號(hào)。裝置用于數(shù)據(jù)收集和分析，給予的方便使用和功率，在消耗較少的樣本和較少的時(shí)間的同時(shí)，為您提供更高質(zhì)量的數(shù)據(jù)，可選的機(jī)器人自動(dòng)取樣器增加了吞吐量甚至更多，以負(fù)擔(dān)每天數(shù)百個(gè)樣品的無(wú)人值守的停止流動(dòng)測(cè)量?？焖賱?dòng)力學(xué)停流裝置主要特點(diǎn)：1.恒溫...

氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器能夠分散干燥粉塵和粉末，適用于需要連續(xù)穩(wěn)定高精度生成氣溶膠的應(yīng)用，這些測(cè)試氣溶膠通常被用于氣溶膠科學(xué)、過(guò)濾器檢驗(yàn)、工業(yè)加工和*任務(wù)。儀器具有可互換的分散裝置，可以在不同的輸出濃度下分散不同的材料，即使在環(huán)境濕度較高的地方，儀器也能通過(guò)壓力蓋保持材料干燥，是一種通用的干粉氣溶膠擴(kuò)散器，其在氣溶膠及粉體科學(xué)、工業(yè)過(guò)程和質(zhì)量控制中有廣泛應(yīng)用。干粉和灰塵的擴(kuò)散技術(shù)包含兩個(gè)步驟：即向擴(kuò)散器持續(xù)供料；將粉體擴(kuò)散為氣溶膠。氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器采用電池供電，因此使...

脈沖激光外延制備系統(tǒng)可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料，還提供相關(guān)系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測(cè)工具，還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無(wú)定型或納米晶、聚合物、納米鉆石、鉆石涂層以及器件加工。優(yōu)勢(shì)：1.靶源易蒸發(fā)，即使是高熔點(diǎn)的材料，如氧化物，也很容易蒸發(fā)。2.化學(xué)計(jì)量比準(zhǔn)確，沉積的薄膜和靶材的化學(xué)組分幾乎*一樣。3.污染少。4.激光脈沖的重復(fù)頻率可進(jìn)行薄膜厚度/生長(zhǎng)速率的數(shù)字式或非連續(xù)性控制。5.差分抽氣...